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China Materias primeras

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Materias primeras

Offer Hexafluoroethane gas C2F6

Hexafluoroethane is used as a versatile etchant in semiconductor manufacturing. It can be used for selective etching of metal silicides and oxides versus their metal substrates and also for etching of silicon dioxide over silicon. The solar panel manufacturing industry is one of the major emitters of hexafluoroethane, which has a greenhouse gas potential 12,000 times greater than CO2.

Together with trifluoromethane it is used in refrigerants R508A (61%) and R508B (54%).

Ubicación : Wanxiangcheng, Jiefang Rd., Yanfeng dist., Hengyang, 421000 Hunan,
Persona a contactar : Catherine Wang, 86 734 8755678

catherinew

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Sujetadores - Forjado y estampado en frío de metales industriales
Sujetadores - Forjado y estampado en frío de metales industriales

Wednesday 21 October 2020

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Cabezal de impresión Ricoh MH5340

Saturday 17 January 2026

Cantidad : 1 - Precio : $1,569.54

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